这片领域，芯片制造所在之地，正暗暗地、静悄悄地酝酿着一场革命。佳能公司，正尝试经由一种并非光学的、别样的图案转印技术，去挑战光刻界巨头，那座名为ASML的统治地位之巅峰 。
技术原理突破
纳米压印技术，是借助机械压印方式，把电路图案转移到硅片上的技术。这个技术最早能追溯到1996年美国德州大学所做的研究，在2001年由此催生了首家商业化公司Molecular Imprints Inc.。它跟传统光学光刻全然不同，它无需复杂的光学系统，也不需要昂贵的光源。
该技术运用预先制作而成的模板直接对光刻胶进行压印，这种方式避免了因光学衍射所产生的精度限制，在理论层面上能够实现更高的解析度，其极限精度主要是由电子束写入设备的解析能力所决定的，为未来芯片的微缩提供了一条新的技术路径。
成本优势显著
纳米压印于制造成本层面呈现着巨大的优势，依据测算，它的单片制程成本大概是极紫外光刻的四分之一，这般的成本优势主要源自设备价格大幅降低以及能耗大幅降低，这对于那些动不动就要投资数十亿美元的芯片制造厂而言极具吸引力。
关于能耗这一方面，纳米压印系统所具备的功耗，远远低于极紫外光刻系统。由于芯片制造属于能源消耗量大的产业，所以这项技术有希望很大程度地降低芯片制造进程当中的碳排放。而这对于面临环保压力的半导体产业来讲，是一个相当重要的利好 。
量产瓶颈待解
纳米压印技术虽前景诱人，然而与大规模量产之间却存在着距离，截止到当前，最为棘手的问题在于模板寿命过短，经过测试表明，单个模板仅仅能够支撑压印大概50片晶圆，这和拥有10万片级别使用寿命的光学掩模形成了极为鲜明的对比。
对纳米压印技术而言，模板成本一直居高不下，这无疑也是一重制约因素，制造毫无缺陷的具备高精度的模板，需要用到价格昂贵的电子束写入设备，并且其制作周期比较长，要是打算建立起一套完整的纳米压印产线，那检测设备的需求量，将会等同于全球掩模检测设备一整年的总供应量。
缺陷控制挑战
纳米压印所面临的核心技术难题是缺陷控制，与能够进行4倍图形放大的光学曝光不同呀，纳米压印得按照1:1的比例去进行图案转印呢，从主模板到子模板再到工作模板，每一步都有引入新缺陷的可能性。
对20纳米以下特征尺寸的构建而言，得依靠最前沿的多光束电子束写入神器。此等装置造价高昂，并且制作模板时良率面临不小压力。瑕疵密度掌控成为了判定该项技术是否商业化取得成功的决定性要素。
精度与产能局限
套刻精度这儿，纳米压印此刻仍比阿斯麦的极紫外光刻系统落后着。至于说到佳能所开发出的i-MAT对准系统，如今仅仅能够于晶圆边缘读取少部分对准标记，没办法如同阿斯麦的Twinscan架构那般同时去分析全晶圆误差。
瓶颈所在是产能也得去突破，当下纳米压印设备每小时大概能处理大约100片晶圆，然而极紫外光刻设备每小时能达到220片，单次压印时间虽说比较短，可是模板更换以及清洁这样的辅助工序把整体生产周期给拉长了。
应用前景分析
行业内普遍觉得纳米压印在最近的时期以内并非容易进入主要方向上的先进制造工艺方法。许多家从事存储芯片生产制造的厂商的代表人士提及指出表示道，该一门高新技术的自身天生拥有的不足之处依旧是最为巨大的具有挑战性的难题。模板所需要的成本以及其使用寿命方面存在的问题对大规模批量生产的能够实行的可能性起到了限制的作用。
佳能公司正在转向去开拓记忆体以及显示驱动芯片等中阶制程应用，这些领域对于缺陷的容忍程度相对来说是比较高的，并且对于成本是更加敏感的，要是能够逐步地提升模板耐用度和量产稳定性，纳米压印仍然是有机会在特定市场去建立竞争优势的。
您觉得纳米压印技术最后能不能突破极紫外光刻的垄断局面呢，欢迎在评论区把您的看法分享出来，要是认为本文有价值，请点赞给予支持并且分享给诸多朋友 。
